脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（Pulsed laser ablation，PLA）指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品(衬底)上的薄膜沉积技术。PLD-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求，在丰富经验的基础上设计制造的，采用PBN加热器，可将基板加热到1000℃以上，并采用氧气气氛，从而生产出高质量的薄膜。 诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统设备配置 薄膜沉积室样品交换室闸阀闸阀（沉积室和样品交换室之间）沉积室用真空计样品交换室用真空计沉积室排气系统样品交换室排气系统衬底加热系统靶材台系统激光镭射台架 可选项电子枪衬底加热系统手套箱手套箱运送机构基材温度测量用温度计离子泵 诚南工业PLD-301规格 沉积室中达到的真空度：1×10-6Pa以下表面处理：电抛光（内表面镜面抛光后）排气系统：涡轮分子泵+旋转泵，辅助阀、排气管道部件样品交换室达到的真空度：1×10-4Pa或更低表面处理：电抛光（内表面镜面抛光后）。排气系统：涡轮分子泵+旋转泵，辅助阀、排气管道部件 诚南工业PLD-301的使用： 先将真空室抽到一定真空度, 靶面与基片平行放置, 激光束经由石英透镜聚焦到旋转的目标靶材上， 靶材和试样托分别以一定速度自转，以保证沉积薄膜层的均匀性。