静脉注射药剂胶体磨，混悬型注射剂胶体磨 静脉注射药剂胶体磨，改进型高剪切胶体磨，不溶性药物超微胶体磨，固体药物胶体磨，混悬型注射剂是指将不溶固体颗粒分散到液体中在液体介质中的分散体系。在分散过程中，往往需要减小固体颗粒，这就是湿磨或高剪切分散。用IKN高剪切分散机输入大量能量，可实现我们的目的。
将不溶性固体药物分散于液体分散媒中制成的一类供肌肉或静脉注射用的药剂称为混悬型注射剂。近年来，根据临床用药的需要，将此类药剂以静脉途径给药，可更好发挥药物的作用。内的网状内皮系统有吞噬外来异物的作用，若将水不溶解的固体药物，制成可供静脉注射的微粒，通过静脉送入体内，作为异物被储留在网状内皮细胞丰富的部位，使该处药物浓度提高，从而达到提高疗效，减少剂量，延长药效（药物逐渐被吸收），降低副作用的目的。因此，对于网状内皮系统（如肝脏、淋巴）发生的病变，使用静脉注射用混悬剂，可收到比一般注射剂较好的疗效。医学教育网搜集整理例如中国将具有作用的喜树碱制成静脉注射用混悬剂，使药物高度集中于肝脏，用作治疗肝癌取得满意效果。
在以下情况下药物可制成混悬型注射剂无适当溶媒可溶解的不溶性固体药物；需制成长效制剂的药物；需将药物制成高含量注射液。但指出，上述情况以固体药物能被机体吸收为前提。
混悬型注射剂在剂型上有以下特殊要求：
严格控制药物颗粒的大小。供一般注射者，颗粒应小于10μm，15～10μm者不应超过10%；供静脉注射者，颗粒大小在2μm以下者占99%.否则会引起静脉栓塞。有较好的分散性，不能沉降太快。在贮存时一旦沉下后经振摇可再分散而不能产生结块现象。具有良好的通针性。
可以利用 CM2000 胶体磨 ERS2000 高剪切分散机 CMSD2000 胶体磨或者分散机
从制药设备与药品生产关系上分析，制药设备不仅对制药工业的现代化有影响，而且对设备的规格、结构、材料、性能等各方面都对药品生产有着很大的影响。
IKN公司长期以来积累了丰富的经验，并且yi直与制药公司保持合作，因此，即使是当今医药工业zui复杂的要求，IKN也能够完成。从产品开发yi直到批量生产，IKN公司将持续不断地为您提供支持。 IKN公司为医药工业提供的机器和设备代表zui新技术水平，它们具有以下特点：
· ，根据FDA或者EDEHG标准设计
· 可排尽其内物质
· 适合于CIP和SIP
· 用材料制成（suo有零件）
· 配备适合于医药应用的密封件
· 可提供防爆设计
· 可从实验室级升级到生产级
混选型制剂改进型高剪切胶体磨是在传统胶体磨的基础上进行改进，添加了均质机的均质盘，使其在胶体磨研磨转子的高速（zui高转速21000转）研磨作用下瞬间进入分散盘中进行高剪切分散，同时由于在整个过程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下，物料还同时承受着高频的液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等多种作用力，因此经IKN上海依肯研磨分散机研磨分散后浆料是均一、稳定、经细的产品！
IKN静脉注射药剂胶体磨在医药行业的应用案例:
1、头孢类混悬液，采用CMD2000系列高剪切改进型胶体磨，处理30min，粒径可达5μm；
2、及脂肪乳乳化，采用IKN改进型胶体磨，乳液粒径可达300nm；
3、阿苯达唑混悬液，采用CMD2000改进型胶体磨，14000rpm，粒径可达10μm；
4、口服液，采用IKN改进型胶体磨，14000rpm，20min，粒径可达3μm；
当然还有其他方面的应用，以及具体工艺得出的结果不一定相同，供参考！
IKN静脉注射药剂胶体磨主要体现在以下四个方面
一、转速
IKN胶体磨转速高达14000rpm，是同lei设备的4-5倍，剪切力高，研磨破碎能力强。
二、高经密磨头定转子
磨头结构为三道磨碎区，为粗磨碎区，二级为细磨碎区，为超微磨碎区。磨头定转子符合流体力学的设计，错齿，沟槽深度和宽度逐级变细，研磨破碎效果，逐级提高。
三、德国博格曼双端面机械密封
采用德国博格曼双端面机械密封，并配机封冷却系统，在冷却水的情况下，可24小时连续生产。
四、卫生级设计
IKN卫生采用直立式设计，无卫生死角，便于清洁消毒，符合CIP及SIP等GMP管理标准，获得美国FDA颁发的3A卫生等级证书，同时，IKN提供的模块式设计能很好的实现不同制药工艺的要求
IKN静脉注射药剂胶体磨的技术参数：
高速胶体磨
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
700
14000
40
4
DN25/DN15
CMD 2000/5
5,000
10,500
40
11
DN40/DN32
CMD 2000/10
10,000
7,300
40
22
DN50/DN50
CMD 2000/20
30,000
4,900
40
45
DN80/DN65
CMD 2000/30
60,000
2,850
40
75
DN150/DN125
CMD 2000/50
100000
2,000
40
160
DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
静脉注射药剂胶体磨，改进型高剪切胶体磨，不溶性药物超微胶体磨，固体药物胶体磨
